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业将迎大部分Co和Fe占据面心位。对于多主元合金，高速之前的研究发现电子对缺陷的适应能力以及化学键的方向性可以较好的描述堆垛层错缺陷形成能力。
小结：发展综上所述，本文利用DFT方法研究了(Ni,Co,Fe)3(Al,Ti,Fe)及其子体系的元素占位和形变机理，得到以下结论：1、Ti倾向于占据Al位。Fe对层错能的影响与局域结构和局域浓度高度相关，物联网产且并未表现出明显的趋势，即Fe元素对面缺陷的形成能的影响较弱。与此思路类似，业将迎L12相强化的高熵合金同时具有优异的强度和延展性，使其具备了广泛的应用前景。
另外，高速虽然SISF的形成能比APB和CSF的形成能都低，但其不稳定面缺陷形成能却远高于APB和CSF，表明很难通过剪切单个原子面形成SISF。由上图可知，发展Ni3Al体系的λ值最低，并满足了PPV标准。
物联网产而占据Al位的Ti可显著提高合金体系的层错能。
由面缺陷形成能计算结果可知，业将迎Ni3(Al,Ti)体系的面缺陷形成能最高，其次为(Ni,Co,Fe)3(Al,Ti,Fe)体系。须注意不宜食用太多，高速西瓜甜份高。
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